报 告 题 目: 椭偏仪与超薄层状纳米结构测量：挑战、机遇、进展、展望

    报  告  人 ：刘世元 教授

　　报 告 时 间：2016年11月25日（周五）16：00

　　报 告 地 点：应光室5楼会议室  

　　专 家 介 绍：刘世元，男，1970年出生，博士，教授，博士生导师，国家杰出青年科学基金获得者，科技部中青年科技创新领军人才，国际测量与仪器委员会(ICMI)理事。近年来主持了5项国家自然科学基金、首批国家重大科学仪器设备开发专项等项目。获国际国内发明专利42件，在Appl. Phys. Lett.、Opt. Express、Opt. Lett.等期刊发表SCI论文82篇。

    报 告 摘 要：椭偏仪是一种利用光的偏振态改变信息来分析样品的重要科学仪器，广泛应用于材料光学常数、薄膜厚度等参数的测量表征。近年来随着纳米技术、二维材料、集成电路、有机发光二极管(OLED)、有机光伏(OPV)、柔性电子等国家重大新兴战略产业的飞速发展，对先进光电功能材料与器件基础研究及其制造工艺过程的表征测量提出了新的挑战，迫切要求发展新的椭偏测量原理及其应用基础研究。本报告首先介绍传统椭偏测量的基本原理、特点、及其在多层光学薄膜表征中的应用。然后阐述集成电路、OLED/OPV、柔性电子等领域中普遍采用的超薄层状纳米结构及其测量挑战，探讨椭偏测量新原理与新仪器的发展机遇。接下来介绍本课题组的若干最新进展，包括自主研制的国内第一台高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪与成像椭偏仪、及其在集成电路纳米结构形貌测量、二维材料单原子层膜厚表征、OLED/OPV材料分子取向各向异性研究、原子层沉积(ALD)薄膜成核过程原位测量、以及卷对卷(roll-to-roll)大面积纳米结构薄膜量产在线监测中的应用。最后展望椭偏测量的应用前景及未来发展趋势。 

　　                                                        应用光学国家重点实验室  

　　                                                    长春光机所青年创新促进会小组